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铅室
1、分体式全新上层铅室，四路低本底多道生产厂家，结构紧凑，更小体积，四路低本底多道价格，屏蔽效果---
2、一体化下层铅室，重点心下移，
3、可拆卸中间层，安装拆卸独立，方便，提供单通道，双通道，四路低本底多道，四通道及六通道送样抽屉
4、低本底（对α<8cp6000s， 对β<230cp6000s）
2.1 屏栅电离室的结构和主要参数
为防止样品制备过程中丢失核素，也为省去通常比较费时的化学分离，把待测介质薄薄地铺成大面积薄样是很理想的 α 能谱分析方法。
2.2 大面积源样品的制备
为利用屏栅电离室进行 α 能谱分析，制备出符合要求的大面积均匀薄源是十分关键的。假若样品本身不够薄 和不均匀，那探测器本身的能量分辨本领再高也是没有用的，四路低本底多道供应商，因为样品自吸收会产生很大的 α 能谱的“尾巴 ”，从而使对 α 能谱的分辨本领遭到---破坏。
技术参数
1.对239pu α标准源的2π探测效率***85%时，本底≤0.08个计数cm-2h-1，典型值为 0.02个计数cm-2h-1。
2.对于90sr-90y β标准源2π探测效率***40%时，本底≤0.08个计数cm-2min-1，典 型值为0.03个计数cm-2min-1。
3.混道性能：α进入β道的计数效率≤1%，β进入α道的计数效率为零。
4.稳定性：8h后，α效率变化在±≤5%；β效率变化在±≤10%范围内。
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